K&F Concept Nano-X PRO MC UV filtr 49 mm pro Leica Q3/Q2

UV filtr K&F Concept 49 mm řady MC Nano-X PRO je prémiový ochranný filtr na objektiv, navržený speciálně pro fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Díky ultračistému optickému sklu, elegantnímu rámu z mosazi opracovanému technologií CNC a pokročilým 36vrstvým nano povlakům tento ultratenký UV filtr minimalizuje odrazy, odlesky a duchy a zároveň poskytuje vynikající ochranu objektivu, aniž by to mělo vliv na kvalitu obrazu, kompatibilitu s clonou objektivu nebo makro výkon.

Chraňte objektiv svého fotoaparátu Leica a zachovejte si přitom výjimečnou kvalitu snímků díky UV filtru K&F Concept 49 mm MC z řady Nano-X PRO. Tento prémiový UV filtr s vícenásobnou povrchovou úpravou, navržený speciálně pro fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2, kombinuje špičkové optické vlastnosti s elegantním designem mosazného rámečku, který čerpá inspiraci z klasické estetiky značky Leica.

Filtr je vyroben z optického skla s vysokým rozlišením a pomocí technologie přesného leštění si zachovává vynikající ostrost a čistotu, čímž plně podporuje vysoké rozlišení 60MP snímačů Leica. Ultratenký mosazný rámeček lícuje s objektivem, aby zabránil vinětaci a vyhnul se kolizím s krytkami objektivu nebo při použití makro režimu, čímž zajišťuje bezproblémovou kompatibilitu při fotografování.

Pokročilá 36vrstvá nano vrstva výrazně snižuje odrazy na pouhých 0,1 %, čímž minimalizuje duchy a odlesky v náročných podmínkách protisvětla a zároveň zachovává kontrast a věrnost obrazu. Vícevrstvá vrstva také poskytuje voděodolnou, odolnou proti poškrábání a oleji odpuzující ochranu, díky čemuž filtr vydrží každodenní používání a zároveň se snadno čistí.

Na rozdíl od standardních hliníkových rámečků nabízí rámeček z mosazi opracovaný na CNC strojích zvýšenou odolnost, hladší závit a lepší tlumení nárazů, přičemž poskytuje prémiový vintage vzhled, který krásně doplňuje těla fotoaparátů Leica.

Tento UV filtr řady Nano-X PRO, navržený pro fotografy, kteří vyžadují bezkompromisní optickou kvalitu a spolehlivou ochranu objektivu, poskytuje profesionální výkon v elegantním a odolném balení.

Klíčové vlastnosti

• Určeno pro fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2
• Prémiový ochranný filtr MCUV
• Ultratenký mosazný rámeček zabraňuje vinětaci
• Nenarušuje funkci sluneční clony ani makro režim
• Pokročilá technologie 36vrstvého nano povlaku
• Extrémně nízká odrazivost 0,1 % snižuje odlesky a duchy
• Optické sklo s vysokým rozlišením pro maximální ostrost
• Voděodolný, odolný proti poškrábání a olejovzdorný povlak
• Přesná konstrukce rámu z mosazi opracovaná na CNC strojích
• Hladký závit a vylepšené tlumení nárazů
• Zachovává přesnost barev bez barevného nádechu
• Optimalizováno pro senzory Leica 60 MP s vysokým rozlišením